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本发明涉及线圈技术领域,特别地涉及一种线圈结构及其制作方法。本发明公开了一种线圈结构及其制作方法,其中,线圈结构的制作方法,包括如下步骤:步骤S1,准备单面覆导电层的基板;步骤S2,在基板的导电层上覆盖遮蔽膜;步骤S3,依线圈线路图形的边沿对遮蔽膜进行切割;步骤S4,去除切割线圈轮廓外的遮蔽膜,将未被遮蔽膜盖住的导电层刻蚀掉;步骤S5,去除覆盖于线圈线路表面的遮蔽膜。本发明避免手工绕制的效率低、精度差的问题,可适合大批量生产;不采用感光干膜曝光工艺,不被曝光机尺寸受限,可实现超大尺寸的加工能力。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117854919A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202311810666.9
(22)申请日2023.12.26
(71)申请人厦门市铂联科技股份有限公司
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