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本发明涉及一种基于波前偏振干涉的全息光刻曝光设备，属于光刻技术领域。该曝光设备包括外套筒；所述外套筒内部依次布设有波前调制器、滑筒1、透镜1、透镜2、透镜3、透镜4、频谱调制器、透镜5、透镜6、透镜7、透镜8、滑筒2和曝光面。本发明通过采用共光路设计方案，大大降低了温度、振动扰动对曝光光路的影响，曝光设备可以实现对任意复杂波前的复制，适用性更强，可适用于全息光栅、液晶光栅以及微透镜阵列等微纳光子器件曝光，且曝光边缘接缝窄，有利于大面积拼接。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117850173A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202410192586.X
(22)申请日2024.02.21
(71)申请人中国科学院重庆绿色智能技术研究
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