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本申请实施例提供一种超声波清洗构件及半导体清洗设备，涉及超声波清洗领域。一种超声波清洗构件及半导体清洗设备，包括：清洗设备还包括能够独立存有清洗液的清洗盒，清洗盒底部还设有超声波构件，清洗盒的内部设有两组相对的导轨组件，在清洗盒的底部一侧设有可抽吸溶液的循环泵，自循环泵的入水端还设有循环管，同时沿其循环管外周面两侧延伸至清洗盒侧壁设有回流管，而回流管自由端设有的抽吸罩设于清洗盒内部，超声波构件对清洗盒内部通过半导体芯片进行清理时，循环泵同时运转，通过两侧的回流管抽吸其清洗盒内部的溶液，继而使清洗
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117840126A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202410072922.7B01D29/03(2006.01)
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