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一种用于清洁基板的清洁装置，包括：灯，所述灯用于在照射区域中发射紫外线辐射；外壳，所述外壳容纳灯；水偏转器，在外壳下方间隔开来，水偏转器具有用于接收臭氧水的供应的水入口及用于将通过灯照射的臭氧水排放至水偏转器下方的基板处理区域中的水出口，且在水入口及水出口之间界定水流动路径，水流动路径在照射区域中延伸；上部反射器，沿着灯且在灯上方延伸；及下部反射器，沿着水偏转器且在水偏转器下方延伸，其中上部反射器及下部反射器至少部分地界定照射区域，且将紫外线辐射反射朝向水流动路径，且其中下部反射器使基板与通过灯
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117859196A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202280056107.0(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理
(22)申请日2022.07.
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