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一种可调节的阳极装置和磁控溅射设备.pdf

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    本实用新型涉及钙钛矿电池应用技术领域，具体涉及一种可调节的阳极装置和磁控溅射设备，可调节的阳极装置应用于磁控溅射设备，磁控溅射设备包括镀膜腔体，镀膜腔体的内侧壁设有用于对基板进行磁控溅射的靶材，阳极装置包括：两组阳极组件，分别位于靶材的两侧并沿水平方向滑动连接在镀膜腔体内，且阳极组件位于靶材和基板之间；驱动组件，设置在镀膜腔体上，且输出端与阳极组件连接，适于驱动阳极组件沿水平方向滑动，解决了现有的辅助阳极装置的调整方式较为繁琐，操作难度较大，调整周期长，影响生产效率的技术问题。

    (19)国家知识产权局

    (12)实用新型专利

    (10)授权公告号CN220767148U

    (45)授权公告日2024.04.12

    (21)申请号202322258024.4

    (22)申请日2023.08.21

    (73)专利权人深圳市曼恩斯特

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