半导体工艺主要设备大全.pdf

清洗机超音波清洗机是现代工厂工业零件表面清洗的新技术,目前已广泛应用于半导体硅

片的清洗。超声波清洗机“声音也可以清洗污垢”——超声波清洗机又名超声波清洗器，

以其洁净的清洗效果给清洗界带来了一股强劲的清洗风暴。超声波清洗机（超声波清洗器）

利用空化效应，短时间内将传统清洗方式难以洗到的狭缝、空隙、盲孔彻底清洗干净，超

声波清洗机对清洗器件的养护，提高寿命起到了重要作用。CSQ系列超声波清洗机采用

内置式加热系统、温控系统，有效提高了清洗效率；设置时间控制装置，清洗方便；具有

频率自动跟踪功能，清洗效果稳定；多种机型、结构设计，适应不同清洗要求。CSQ

系列超声波清洗机适用于珠宝首饰、眼镜、钟表零部件、汽车零部件，医疗设备、精密偶

件、化纤行业（喷丝板过滤芯）等的清洗；对除油、除锈、除研磨膏、除焊渣、除蜡，涂

装前、电镀前的清洗有传统清洗方式难以达到的效果。恒威公司生产CSQ系列超声波

清洗机具有以下特点：不锈钢加强结构，耐酸耐碱；特种胶工艺连接，运行安全；使用

IGBT模块，性能稳定；专业电源设计，性价比高。反渗透纯水机去离子水生产设备之

一，通过反渗透原理来实现净水。

纯水机清洗半导体硅片用的去离子水生产设备，去离子水有毒，不可食用。

净化设备主要产品：水处理设备、灌装设备、空气净化设备、净化工程、反渗透、超滤、

电渗析设备、EDI装置、离子交换设备、机械过滤器、精密过滤器、UV紫外线杀菌器、

臭氧发生器、装配式洁净室、空气吹淋室、传递窗、工作台、高校送风口、空气自净室、

亚高、高效过滤器等及各种配件。

风淋室：运用国外先进技术和进口电器控制系统,组装成的一种使用新型的自动吹淋室.它

广泛用于微电子医院制药生化制品食品卫生精细化工精密机械和航空航天等生产和科

研单位,用于吹除进入洁净室的人体和携带物品的表面附着的尘埃,同时风淋室也起气的作用,防

止未净化的空气进入洁净区域,是进行人体净化和防止室外空气污染洁净的有效设备.

抛光机整个系统是由一个旋转的硅片夹持器、承载抛光垫的工作台和抛光浆料供给装置三

大部分组成。化学机械抛光时，旋转的工件以一定的压力压在旋转的抛光垫上，而由亚微

米或纳米磨粒和化学溶液组成的抛光液在工件与抛光垫之间流动，并产生化学反应，工件

表面形成的化学反应物由磨粒的机械作用去除，即在化学成膜和机械去膜的交替过程中实

现超精密表面加工，人们称这种CMP为游离磨料CMP。

电解抛光电化学抛光是利用金属电化学阳极溶解原理进行修磨抛光。将电化学预抛光和机

械精抛光有机的结合在一起，发挥了电化学和机构两类抛光特长。它不受材料硬度和韧性

的限制，可抛光各种复杂形状的工件。其方法与电解磨削类似。导电抛光工具使用金钢石

导电锉或石墨油石，接到电源的阴极，被抛光的工件（如模具）接到电源的阳极。

光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组

成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得

这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去

可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。光刻胶广泛用于印刷电路

和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反

应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，

对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻

胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以

分为三种类型。①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步

引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。②光分解型，采用含有叠氮醌

类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。

③光交联型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打

开，并使链与链之间发