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本发明涉及一种边缘抛光装置,包括承载待抛光件的承载面,抛光鼓和与所述抛光鼓枢接的多个连接杆,每个所述连接杆的两端分别设置有抛光垫和配重锤,所述连接杆上还设置有用于在所述抛光鼓旋转过程中自动调整所述连接杆与所述抛光鼓的外周面之间的角度的调节结构。通过所述调节结构的设置,可以在抛光过程中动态调整,提高对硅片边缘进行抛光的多个抛光垫对硅片的作用力的均匀性,避免由于抛光垫与硅片边缘之间的作用力不均匀,导致硅片边缘轮廓发生变化,甚至破片问题的发生。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115922484A
(43)申请公布日2023.04.07
(21)申请号202211607168.X
(22)申请日2022.12.14
(71)申请人西安奕斯伟材料科技有限公司
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