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- 2024-04-17 发布于四川
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本发明提供一种监控化学机械平坦化研磨端点检测异常的装置,包括端点检测模块,其用于监控化学机械平坦化研磨中晶圆上至少一膜层的全扫描形貌信号;第一检测模块,其用于根据全扫描形貌信号的信号强度判断研磨是否发生异常;若是,则标记晶圆为异常晶圆;若否,则晶圆进行后续工艺流程;第二检测模块,其用于检测全扫描是否发生偏移;若是,且第一检测模块判断研磨未发生异常,则重新检测晶圆是否存在缺陷;若否,则晶圆进行后续工艺流程。本发明能够监测全扫描异常,若全扫描发生异常,能够实时报警,异常晶圆不会流出,当站可以返工,防
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117885031A
(43)申请公布日2024.04.16
(21)申请号202410074172.7
(22)申请日2024.01.17
(71)申请人华虹半导体(无锡)有限公司
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