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中国光刻机行业发展现状

内容概述：中国光刻机市场规模上涨的主要原因是5G建设推动需求增加、半导体产业

升级、技术进步带来需求增长以及国产光刻机品牌崛起。这些因素相互作用，共同推动了光

刻机市场的快速发展。

一、光刻机概述

又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似

照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机是半导体制造中关键的工具，用于将光线通过掩模模板，将图案转移到光刻胶或

薄膜上。根据光刻机的使用方式和技术原理，可以将其分为以下几类：接触式光刻机

（ContactLithography）：这是最早出现的光刻技术，其原理是将掩模与光刻胶直接接触，

然后使用光源照射，使得图案被传递到光刻胶上。由于接触式光刻机的分辨率有限，主要用

于制造较大尺寸的芯片。紫外光刻机（UltravioletLithography）：紫外光刻机利用紫外光

作为光源，通过透镜或反射镜将光线聚焦到掩模上，再通过投影光学系统将图案投射到光刻

胶上。紫外光刻机具有较高的分辨率和精度，是当前主要的光刻技术。电子束光刻机

（ElectronBeamLithography）：电子束光刻机使用聚焦的电子束代替光源，通过扫描电子

束并控制其位置和强度，将图案逐点地写入光刻胶中。电子束光刻机具有极高的分辨率和精

度，适用于制造高精度的芯片和纳米结构。X射线光刻机（X-rayLithography）：X射线光

刻机使用X射线作为光源，其波长比紫外光更短，能够实现更高的分辨率。然而，X射线光

刻机的设备复杂性和成本较高，目前仅用于一些特殊应用领域。深紫外光刻机

（DeepUltravioletLithography）：深紫外光刻机是一种改进的紫外光刻技术，使用更短波

长的紫外光源，可以实现更高的分辨率和更小的特征尺寸。

国内光刻机产业起步较晚，与海外具体差距明显。1977年，清华大学精密仪器系、中

科院光电所、中国电子科技集团公司第四十五研究所（简称中电科45所）等先后投入研制

光刻机。我国也时隔近十年，研制出了具有一定代表意义的光刻机——接触式光刻机GK-3

型半自动光刻机。

二、政策

《国家集成电路产业发展推进纲要》，提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键

设备，开发光刻胶、大尺英寸硅片等关键材料”；《国务院关于印发“十三五”国家科技创

新规划的通知》提出“突破28纳米浸没式光刻机及核心部件”等政策规划为光刻机产业的

发展提供了良好的政策发展环境。

三、产业链

光刻机涉及的内部零件种类众多，且越高端的光刻机组成越复杂，如EUV内部零件多达

8万件以上，其核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没

系统、光栅系统等，其中光源、晶圆曝光台、物镜和对准系统的技术门槛较为显著。因此，

光刻机企业往往具备高外采率、与供应商共同研发的特点，而其下游应用主要包括芯片制造、

功率器件制造、芯片封装等。

中国显示驱动芯片封测行业经历了一段历时三年的快速增长期，尤其是2021年增幅最

为迅速，较上一年增长超过40%，达到56.10亿元。未来，中国显示驱动芯片封测市场规模

将回落至正常增长区间内，但得益于集成电路国产替代和显示产业链向大陆转移的趋势将不

断加强，根据数据显示，2022年中国显示驱动芯片封装测试行业市场规模保持9%以上的快

速增长，市场规模约为61.2亿元。

相关报告：《中国光刻机产业竞争现状及市场发展策略报告》

四、全球光刻机发展现状

全球半导体设备行业复苏,受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发

展,带动相关芯片的需求,2020年光刻机销售额与销量增速稳定提升。2020年全球光刻机销

量为413台，随着下游市场需求持续升高，2022全球市场仍将持续增长，销量约为510台。

从产品结构来看，销量最多的是i-Line，占比达34%。其次分别为KrF、ArFimmersio、Arfdry、

EUV，占比分别为31%、19%、8%及8%。

五、中国光刻机行业发展现状

根据数据显示，中国光刻机行业市场规模总体呈现上涨态势，其市场规模在2020年迎

来大幅上涨，2020年是中国5G商用元年，5G网络建设对于芯片需求的增加带动了光刻机市

场的扩大。5G技术的广泛应用需要大量的高性能芯片，而光刻机是芯片制造的关键设备之

一，因此5G建设的推动促进了光刻机市场的增长。另一方面，中国正努力加快半导体产业