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微结构窄带滤光片设计及制备工艺研究
潘永强;陈佳
【摘要】为了提升微结构窄带滤光片的光谱透过率,增大微结构单元的制备精度,提出一种新的膜系镀制方法和微结构单元的制备方法.基于法布里-珀罗(F-P)多光束干涉仪原理设计了3种不同中心波长的窄带滤光片,采用光化学掩模分离法和PECVD技术相结合,制备出3种中心波长分别为480nm、520nm和590nm,峰值透过率均大于80%,半宽度30nm~50nm,微结构单元的通道面积为50μm×50μm的窄带滤光片.光谱透过率得到了提升的同时微结构单元边缘整齐、分界线清晰,精度也得到了有效地增加,达到μm量级.%Inordertoimprovetransmittanceofmicrostructurenarrowbandfiltersandincreaseprecisionofmicrostructureunit,newfabricationmethodoffilmdepositionandmicrostructureunitareproposedinthispaper.ThreedifferentcenterwavelengthfiltersaredesignbasedonconceptsofFabry-Perotprinciple.ThreedifferentcenterwavelengthofnarrowbandfiltersarefabricatedbycombiningphotochemicalmaskseparationandPECVDtechnology.Centerwavelengthofnarrowbandfiltersareλ1=480nm、λ2=520nmandλ3=590nmrespectively,transmittanceareallabove80%,withbandwidthbetween30nmto50nmandanareaforeachmicrostructureunit50×50μm2.Transmittanceisimproved,whileprecisionofmicrostructureunitareincreasedtoreachmicronordereffectivelywithneatedgeandcleardividingline.
【期刊名称】《应用光学》
【年(卷),期】2017(038)001
【总页数】5页(P78-82)
【关键词】微结构;窄带滤光片;光化学掩模分离;PECVD
【作者】潘永强;陈佳
【作者单位】西安工业大学光电工程学院,陕西西安710021;西安工业大学光电工程学院,陕西西安710021
【正文语种】中文
【中图分类】TN205;O484.1
多光谱成像技术是利用多个光谱通道进行图像采集、显示、处理和分析的技术[1-2]，其中多个光谱通道的实现就是通过在照相系统中添加滤光片来实现分光的效果。目前，国内外多光谱成像光谱技术正在向光谱通道更多、集成度更高、体积小和质量更轻的方向发展[3-4]。常见的小型化光谱仪采用光栅作为分光器件，这导致无
法真正实现微型化和集成化，最小体积在厘米量级，然而利用微结构滤光片技术就可以方便实现，并能大大减小整个系统的体积并提高其性能和可靠性[5]。
基于F-P滤光膜原理设计并制备了可实现透过可见光波段3个不同中心波长的微结构窄带滤光片。微结构单元的制备过程采用光化学掩膜分离的方法，滤光片的镀制过程利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积得到。
膜系基本结构为F-P干涉仪滤光膜，是根据法布里-珀罗多光束干涉仪制成的干涉膜系。选用的微结构窄带滤光片制备方法为光化学掩模分离法，该方法适合选取单一间隔层的滤光片膜系结构，并通过改变间隔层的厚度来改变中心波长的位置。金属膜具有较大的吸收，一定程度上限制了滤光片性能，所以膜系结构类型为“全介
质单半波”型。设计的中心波长λ2=520nm的窄带滤光片膜系是
G/(HL)24H(LH)2/A，其中H是SiN2，L是SiO2，A是空气，G是基底K9玻璃。通过改变间隔层的厚度，设计得到的中心波长λ1=480nm和λ3=590nm的膜系分别是G/(HL)23.44H(LH)2/A和G/(HL)24.98H(LH)2/A。图1给出了TFCalc软件透射率理论曲线。
微结构滤光片的制备方法主要是掩模分离
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