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本发明公开一种偏光片涂布复合设备及复合方法，其特征在于，包括：两组膜材处理机构及复合机构，两组所述膜材处理机构对称设置；所述膜材处理机构包括放卷组件、电晕组件、除静电组件、除尘组件及UV胶涂布组件，所述放卷组件、所述电晕组件、所述除静电组件、所述除尘组件及所述UV胶涂布组件依次设置；所述复合机构包括复合组件、大直径辊、UV固化装置、收卷装置及控制柜，所述复合组件、所述大直径辊、所述UV固化组件及所述收卷装置依次设置。本发明涉及偏光片加工技术领域，具体地讲，涉及一种偏光片涂布复合设备及复合方法。本
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117901532A
(43)申请公布日2024.04.19
(21)申请号202410084075.6B05D3/06(2006.01)
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