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本发明涉及一种带有复合保护环结构的雪崩光电二极管及其制作方法,属于电子器件领域。该二极管结构包括:衬底;在衬底表面外延形成的吸收区;在吸收区中通过第一导电类型的离子掺杂形成的雪崩区;在雪崩区表面通过第二导电类型的离子掺杂形成的光敏区;在雪崩区和光敏区边缘通过第二导电类型的离子掺杂形成的第一保护环;在第一保护环边缘通过第二导电类型的离子掺杂形成的第二保护环;部分覆盖二极管器件表面的场氧化层;全部覆盖二极管器件表面的复合介质层;以及二极管器件阴极和阳极的电极。本发明通过复合保护环结构优化了器件光敏区
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117913174A
(43)申请公布日2024.04.19
(21)申请号202410030011.8
(22)申请日2024.01.09
(71)申请人中国电子科技集团
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