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石墨烯的制备与表征研究
一、概述
微机械剥离法:这种方法是通过使用透明胶带将高定向热解石墨片按压到其他表面上进行多次剥离,最终得到单层或数层的石墨烯。这种方法在2004年由Geim和Novoselov等人首次使用,成功获得了单层石墨烯,证明了二维晶体结构在常温下是可以存在的。
外延生长法:包括碳化硅外延生长法和金属催化外延生长法。碳化硅外延生长法是在高温下加热SiC单晶体,使得SiC表面的Si原子被蒸发而脱离表面,剩下的C原子通过自组形式重构,从而得到基于SiC衬底的石墨烯。
化学气相沉淀(CVD)法:CVD法被认为是最有希望制备出高质量、大面积石墨烯的方法。该方法通过将碳氢化合物甲烷、乙醇等通入到高温加热的金属基底(如Cu、Ni)表面,反应后在基底表面形成数层或单层石墨烯。
氧化石墨还原法:这种方法被认为是目前制备石墨烯的最佳方法之一。通过氧化石墨的还原过程,可以大规模地制备出石墨烯,并且还可以得到具有广泛应用前景的功能化石墨烯——氧化石墨烯。
光学显微镜法:利用衬底和石墨烯的反射光光强的不同所造成的颜色和对比度差异来分辨层数。这种方法可以快速简便地表征石墨烯的层数。
扫描电子显微镜(SEM)法:SEM图像的颜色和表面褶皱可以大致反映出石墨烯的层数。单层石墨烯在SEM下是有着一定厚度褶皱的不平整面。
透射电子显微镜(TEM)法:TEM可以提供高分辨率的图像,用于观察石墨烯的晶体结构。
原子力显微镜(AFM)法:AFM可以提供石墨烯表面的形貌信息,包括高度和粗糙度等。
拉曼光谱(Raman):Raman光谱可以用于确定石墨烯的层数和结构,以及检测石墨烯中的缺陷。
红外光谱(IR):IR光谱可以用于表征石墨烯的结构,包括官能团的类型和含量等。
射线光电子能谱(PS):PS可以用于分析石墨烯表面的元素组成和化学状态。
紫外可见光谱(UVVis):UVVis光谱可以用于研究石墨烯的光学性质,如吸收和反射特性。
这些表征方法的组合使用可以提供关于石墨烯的全面信息,包括其结构、层数、表面形貌、化学组成和光学性质等。
1.石墨烯的发现与简介
石墨烯,一种由单层碳原子紧密排列形成的二维蜂窝状结构材料,自其被发现以来,便在科学界引起了广泛的关注。回溯到2004年,英国曼彻斯特大学的物理学家安德烈盖姆和康斯坦丁诺沃肖洛夫利用微机械剥离法成功从石墨中分离出石墨烯,这一发现被誉为是“改变21世纪的神奇材料”。在此之前,物理学家们普遍认为,根据热力学涨落理论,二维晶体在有限温度下不可能稳定存在。石墨烯的出现打破了这一传统观念,展现了二维材料的可能性。
石墨烯具有许多令人瞩目的物理特性,如极高的电子迁移率、出色的热导率、极高的力学强度以及独特的量子霍尔效应等。这些特性使得石墨烯在电子学、材料学、能源、生物医学等众多领域具有广阔的应用前景。例如,石墨烯因其优异的导电性和高比表面积,在超级电容器、锂离子电池等能源领域有着广泛的应用同时,其良好的生物相容性和独特的物理特性也使其在生物医学领域,如药物传递、生物成像等方面展现出巨大的潜力。
尽管石墨烯具有如此多的优点,但其制备技术仍然存在一定的挑战。目前,制备石墨烯的主要方法包括微机械剥离法、化学气相沉积法、氧化还原法等。这些方法各有优缺点,需要根据具体的应用场景和需求进行选择。
石墨烯作为一种独特的二维材料,其发现和研究不仅挑战了我们对材料科学的传统认知,也为未来的科技发展提供了无限的可能性。随着制备技术的不断发展和完善,我们有理由相信,石墨烯将在未来的科技领域中发挥更加重要的作用。
2.石墨烯的基本结构与性质
石墨烯是一种由单层碳原子紧密排列形成的二维蜂窝状纳米材料,其基本结构中的碳原子通过共价键相互连接,形成稳定的六边形格子。这种独特的结构赋予了石墨烯一系列令人瞩目的物理和化学特性。
结构特征:石墨烯中的碳原子以sp杂化连接形成单原子层二维晶体,碳原子规整地排列于蜂窝状点阵结构单元之中。每个碳原子与另外三个碳原子通过键相连,剩余的电子与其他碳原子的电子形成离域大键,使得电子可以在该区域内自由移动。
导电性能:石墨烯的电子结构使其具有出色的导电性能。室温下,载流子在石墨烯中的迁移率可达到15000cm(V.s),相当于光速的1300。这种高迁移率使得石墨烯在高速电子器件和集成电路方面具有巨大的应用潜力。
力学性质:石墨烯还展现出了超强的力学性质,其强度与韧性均远超钢铁和塑料等传统材料。石墨烯的杨氏模量达到0TPa,断裂强度达到130GPa,是目前已知材料中最高的。
其他特性:石墨烯还具有优异的导热性、光学透明性和化学稳定性。这些特性使得石墨烯在能源储存与转换、传感器、复合材料、透明导电薄膜等领域具有广泛的应用前景。
石墨烯在实际应用中并非完全平整,而是存在微观尺度的褶皱和各种形式的缺陷,如形貌缺陷
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