TiO2ITO纳米薄膜光催化电极的MOCVD制备及其掺杂改性的研究的开题报告.docxVIP

TiO2ITO纳米薄膜光催化电极的MOCVD制备及其掺杂改性的研究的开题报告

一、研究背景和意义

光催化技术是一种利用光能产生电子和空穴，从而促进物质反应的技术，广泛应用于环境净化、消毒、水处理等领域。其中，光催化电极是光催化技术的核心，是将光与电化学技术相结合的一种新型电极材料。

TiO2是一种广泛应用于光催化领域的材料，但其光催化活性有限，传统的改性方法往往需要高温处理，而且效果不稳定易失活。因此，探索一种有效的改性方法，提高TiO2的光催化活性是十分必要的。ITO是一种广泛应用于透明导电膜领域的材料，其导电性能良好。将TiO2与ITO纳米薄膜复合形成TiO2ITO纳米薄膜光催化电极能够克服TiO2的导电性问题，从而提高其光催化活性。

二、研究目的和研究内容

本研究的目的是采用MOCVD方法制备TiO2ITO纳米薄膜光催化电极，并对其进行掺杂改性，提高其光催化活性。具体研究内容包括：

(1)采用MOCVD方法制备TiO2ITO纳米薄膜；

(2)对TiO2ITO纳米薄膜进行表征，包括晶体结构、形貌、组成和光学特性等；

(3)采用离子注入、溶胶-凝胶和等离子体处理等方法对TiO2ITO纳米薄膜进行掺杂改性；

(4)对掺杂后的TiO2ITO纳米薄膜进行光催化活性测试；

(5)分析掺杂方式和掺杂浓度对光催化活性的影响。

三、预期成果和研究意义

本研究预期通过MOCVD方法制备出TiO2ITO纳米薄膜，利用掺杂方式提高其光催化活性，并探索最优的掺杂条件。这对于提高光催化技术的效率和实用性，促进环境净化、水处理等领域的发展具有重要意义。