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提供一种载置台，其是用于载置被实施等离子体处理的基板的载置台，其中，该载置台具有：静电卡盘，其吸附被配置于所述基板的周边的边缘环和该基板；和供给孔，其用于向所述静电卡盘与所述边缘环之间供给热介质，在所述边缘环和所述载置台中的至少任一者设置有槽，所述槽不与所述供给孔连通。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111095498A
(43)申请公布日
2020.05.01
(21)申请号20198
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