原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开一种记忆合金微纳结构及制造方法，涉及光学结构器件领域，记忆合金微纳结构采用记忆合金材质且能够实现宽光谱调控，其制造方法包括以下步骤：步骤一、制作出微纳结构模具；步骤二、在记忆合金块的上表面涂覆光刻胶，对记忆合金块和光刻胶进行加热，采用微纳结构模具压印光刻胶，进而制作出微纳结构掩膜；步骤三、通过离子束刻蚀在记忆合金块的表面加工出记忆合金微纳结构。该记忆合金微纳结构不会由于受衍射极限的限制而导致无法制作尺度更小的结构，避免了依靠外力拉伸实现微纳结构的变化而导致的可记忆性差、精度低的缺点，解
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118068457A
(43)申请公布日2024.05.24
(21)申请号202410220942.4G03F7/00(2006.01)
文档评论（0）