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本发明公开一种基于氟硼二吡咯结构的Ⅰ型光敏剂，具有式(Ⅰ)所示结构，是氟硼二吡咯BODIPY类有机小分子染料，不含有重原子，具有良好的平面结构，吸收光谱明显红移，在光疗窗口内具有很强的光捕获能力。该光敏剂在光照条件下，可以过I型光动力途径敏化氧气生成超氧阴离子自由基，进而诱导细胞凋亡，并杀死癌细胞。且该光敏剂在正常氧浓度(21％O2)下和乏氧(2％O2)条件下都可以有效抑制肿瘤细胞，同时自身暗毒性很小，可以应用于制备灭活肿瘤细胞的光动力药物。另外，该光敏剂的合成方法简单、原料易得、合成条件易于实
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115043858A
(43)申请公布日2022.09.13
(21)申请号202110255069.9
(22)申请日2021.03.09
(71)申请人北京师范大学
地址100875
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