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本发明提供了一种半导体封装方法、封装线路结构及半导体封装结构,通过刻蚀工艺在半导体晶圆中形成沟槽并通过填充所述沟槽得到导电柱,接着,在所述半导体晶圆的第一表面和第二表面分别形成电连接所述导电柱的再布线层以及导电结构,至此都是采用晶圆级制程工艺,由此,使得封装线路中的关键结构,即所述导电柱、再布线层和导电结构的线宽能够做得非常细,达到纳米级,从而实现了纳米级的封装线路加工。进一步的,通过采用嵌入式互连的方式进行封装布线,制备的封装线路结构中的线路更加密集,其集成度更高,尺寸及厚度也更小更薄,相应形
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118099087A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202211503264.XH01L21/3065(2006.01)
(22)申请日2022.1
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