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本披露提供一种用于蚀刻铜的新的湿法原子层蚀刻(ALE)工艺。更具体地,本披露提供了利用新的蚀刻化学物质在湿法ALE工艺中蚀刻铜的方法的各种实施例。通过在湿法ALE工艺中利用本文披露的新的蚀刻化学物质,本披露提供了具有单层精度的铜的高选择性蚀刻。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118103962A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202280069487.1阿卡尔古德·西塔拉姆
(22)申请日2022.09.14
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