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本公开涉及一种炉管设备、基板处理方法与基板处理系统，炉管设备包括本体、晶舟、第一气体注射件、第二气体注射件以及抽真空器件。本体设有反应腔室，以及用于给反应腔室加热的加热机构。晶舟设有用于支撑基板的支撑部。氢气与氧气在反应腔室内部的低压高温环境下，形成游离态离子，游离态离子真空状态下发生扩散作用与基板表面接触发生反应生成氧化硅膜层，游离态氢离子起到加速氧化反应。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN118086869A
(43)申请公布日2024.05.28
(21)申请号202211458790.9
(22)申请日2022.11.21
(71)申请人长鑫存储技术有限公司
地址23
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