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半导体制造中常用化学品.pdfVIP

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  • 2024-06-05 发布于中国
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半导体制造中常用化学品.pdf

    半导体制造中常用化学品

    半导体制造过程中常用的酸

    名称符号用途

    氢氟酸HF刻蚀二氧化硅SiO以及清洗石英器皿

    2

    湿法清洗化学品,2号标准清洗液的一部分,

    盐酸HCl

    用来去除硅中的重金属元素

    “piranha”溶液7份HSO和3份30%的双氧

    24

    硫酸HSO

    2

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