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紫外光刻干膜微流控模具制作研究汇报人：2024-01-27

目录contents引言紫外光刻技术原理及特点干膜微流控模具制作工艺流程实验设计与实施结果分析与讨论结论与展望

01引言

微流控技术是一种在微米尺度上操控流体的技术，具有体积小、功耗低、响应快等优点，在生物医学、化学分析、环境监测等领域有广泛应用。微流控技术的重要性紫外光刻技术是一种高精度、高效率的微纳加工技术，能够实现复杂微结构的快速、批量制造，为微流控模具制作提供了新的解决方案。紫外光刻技术的优势本研究旨在探索紫外光刻干膜微流控模具制作的新方法，提高模具的制作效率和质量，推动微流控技术的发展和应用。研究意义研究背景与意义

目前，国内外在微流控模具制作方面主要采用注塑、激光加工、3D打印等技术。然而，这些技术存在成本高、精度低、周期长等问题，难以满足日益增长的市场需求。国内外研究现状随着科技的进步和市场需求的变化，微流控模具制作技术将朝着高精度、高效率、低成本的方向发展。紫外光刻技术作为一种新兴的微纳加工技术，具有高精度、高效率等优点，将在微流控模具制作领域发挥重要作用。发展趋势国内外研究现状及发展趋势

研究目的：本研究旨在探索紫外光刻干膜微流控模具制作的新方法，提高模具的制作效率和质量，为微流控技术的发展和应用提供有力支持。研究内容：本研究将围绕以下几个方面展开研究紫外光刻干膜材料的选择与制备；微流控芯片设计与仿真分析；紫外光刻工艺参数优化与实验研究；微流控芯片性能测试与应用研究。研究目的和内容

02紫外光刻技术原理及特点

光刻胶涂覆掩膜版制作对准和曝光显影和定影紫外光刻技术原基材表面均匀涂覆一层光刻胶，形成薄膜。根据设计图案制作掩膜版，掩膜版上透明和不透明部分对应着需要曝光和保护的区域。将掩膜版与基材上的光刻胶对准，使用紫外光源进行曝光，使光刻胶发生化学反应。曝光后，使用显影液去除未曝光部分的光刻胶，再使用定影液固定图案。

高分辨率高效率低成本适用性广紫外光刻技术特点紫外光刻技术能够实现微米甚至纳米级别的精度，适用于高精度微流控模具的制作。相对于其他微纳加工技术，紫外光刻技术具有较低的设备成本和材料成本。紫外光刻技术采用自动化生产线，能够实现大批量、高效率的生产。紫外光刻技术可用于多种材料的加工，如玻璃、石英、硅片等，具有广泛的适用性。

紫外光刻技术应用范围用于制造集成电路、微处理器、传感器等微电子器件。用于制造光波导、光栅、光开关等光电子器件。用于制造微流控芯片、生物芯片等微流控器件，实现微量液体的精确操控和分析。如微纳加工、微纳光学、生物医学等领域也有广泛的应用。微电子领域光电子领域微流控领域其他领域

03干膜微流控模具制作工艺流程

选择合适的干膜材料根据微流控芯片的需求，选择具有优良光学性能、机械性能和化学稳定性的干膜材料，如聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚碳酸酯（PC）等。材料准备将选定的干膜材料裁剪成适当大小，并进行清洗、干燥等预处理，以确保材料表面干净、无杂质。干膜材料选择与准备

根据微流控芯片的设计要求，利用CAD等设计软件绘制模具图案，并确定关键尺寸和公差。采用高精度数控机床或激光切割机等设备，将设计好的模具图案加工到干膜材料上。加工过程中需严格控制加工精度和表面质量。模具设计与加工模具加工模具设计

将加工好的干膜模具放置在紫外光刻机中，通过精确控制曝光时间和光源强度，使干膜材料在特定区域发生光化学反应。曝光处理曝光后，将干膜模具放入显影液中，通过化学反应去除未曝光部分的材料，从而得到具有微流控结构的模具。显影处理曝光与显影处理

后期处理对显影后的模具进行清洗、干燥等后期处理，以去除残留物并提高模具的稳定性。检测利用光学显微镜、扫描电子显微镜（SEM）等设备对模具进行形貌和尺寸检测，确保模具质量符合设计要求。同时，可对模具进行性能测试，如耐压、耐温等，以验证其在实际应用中的可行性。后期处理及检测

04实验设计与实施

选择透明度高、热稳定性好的聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）作为基材，采用紫外光刻干膜技术在其表面构建微流控通道。材料首先，在PMMA基材上涂覆一层光刻胶，然后通过掩膜版将设计好的微流控通道图案转移到光刻胶上。接着，利用紫外光照射使光刻胶固化，最后通过显影、清洗等步骤得到具有微流控通道的PMMA模具。方法实验材料与方法

过程按照实验设计，逐步完成光刻胶涂覆、掩膜版对准、紫外光照射、显影和清洗等步骤，并记录每一步的操作细节和实验现象。结果分析通过观察和分析实验现象，发现紫外光刻干膜技术能够成功地在PMMA基材上构建出微流控通道，且通道形状规则、尺寸精确。同时，该技术具有操作简便、成本低廉等优点。实验过程与结果分析

VS对实验过程中记录的数据进行整理和分析，包括光刻胶厚度、紫外光照射时间、显影液浓度等参数对微流控通道形貌和