薄膜晶体管的制备技术和过程.docx

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薄膜晶体管的制备技术和过程〔以ZnO薄膜为例〕

一、薄膜的常用制备方法介绍

ZnO薄膜的制备主要有以下几种方法：射频磁控溅射、分子束外延〔MBE〕、金属有机化合物化学气相淀积〔MOCVD〕、脉冲激光沉积〔PLD〕、原子层淀积〔ALD〕以及溶胶-凝胶法〔Sol-gel〕等。下面先简洁介绍后五种方法，着重介绍射频磁控溅射法。

1、分子束外延法〔MBE〕

分子束外延法〔MBE〕可以制备得到高质量的光电子器件外延薄膜，因此该技术快速的进展起来，其工作原理就是系统在超高真空条件下，衬底经原子级清洁后，将具有肯定热能的一种或多种分子〔原子〕束流直接喷射到晶体衬底上，在衬底外表发生化学反响，