SJT11829.1-2022 晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积（ PECVD ）设备 第1部分：管式PECVD 设备.pdf

ICS31.550

CCSL95

中华人民共和国电子行业标准

SJ/T11829.1-2022

晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相

淀积（PECVD）设备

第1部分：管式PECVD设备

Plasmaenhancedchemicalvapordeposition(PECVD)equipmentusedfor

crystallinesiliconphotovoltaiccells-Part1:TubularPECVDequipment

2022-10-20发布

2023-01一01实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

SJ/T11829.1-2022

目次

前言III

1范围...............................................................................1

2规范性引用文件.....................................................................1

2

I

SJ/T11829.1-2022

目lj~

本文件按照GB/T1.12020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规

定起草。

III

SJ/T11829.1一－2022

晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积（PECVD）设备

第1部分：管式PECVD设备

1范围

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

等离子体增强化学气相淀积plasmaenhancedchemicalvapordeposition(PECVD)

利用微波、射频或高频电源，在特定条件下生成等离子体，气态前驱物在等离子体作用下发生离子

化，形成激发态的活性基团，活性基团扩散到基片表面并能在较低的温度下发生化学反应，反应物在基

片表面淀积形成所需薄膜的一种工艺技术。

SJ/T11829.12