现代测量与分析技术作业.doc

PAGE/NUMPAGES

现代测量与分析技术作业

班级：应物1001

姓名：张光宇

学号:1404100202

现代测量与分析技术作业

第一讲

1。{111｝：（111)（-111）(1—11）（11-1）（-1—11）（—11-1）（1-1-1）（—1-1—1)

{110}:（110）（101）(011)（—110）（1-10）（—101）(10-1）(0—11)（01—1)（—1-10）（—10-1）（0—

2.不是因为材料中的晶粒大小并不完全一样，计算所得实为不同晶粒大小的平均值.而且晶粒不是球形,在不同方向的厚度是不同的，所以由不同的衍射线求得的D是不同的，所得到的是不同方向上的平均值D，即为晶粒大小。

3.采用粉晶法分析，即使用粉末状多晶体,固定入射的X射线的波长，改变入射角。

第二讲

1.透射电镜对样品的观测方式:1。明场像，将物镜的像平面与中间镜的物平面重合。利用透射电子束成像。观察物体的形貌像。2。暗场像，将物镜的像平面与中间镜的物平面重合。利用衍射电子束成像。观察物体的形貌像。3。选区衍射，获得选定区域的形貌像或衍射花样。将选区光栏置于物镜后焦平面，并使中间镜物平面与物镜后焦平面重合，可获得选区衍射花样.将选区光栏置于物镜成像平面，并使中间镜物平面与物镜成像平面重合，可获得选区形貌图.

2。由于电子束的穿透力较弱,难以穿过0.1μm以上的切片，所以TEM对样品的厚度有极高的要求.一般情况下在500～2000之间。

第三讲

1。SEM工作原理：利用聚焦电子束与式样物质相互作用产生背散射电子、二次电子、吸收电子、透射电子、特征X射线、俄歇电子等物理信号，分析试样物质的微区形貌、晶体结构和化学组成。与放大倍数、分辨率、景深等性能参数有关。不会取决于表面原子的原子系数。

2。可以分析该材料扫描电子显微镜产生的特征X射线来判断元素组成.

第四讲

1。区别：1.工作原理不同，STM是利用电子隧道效应，AFM是利用原子间的范德瓦耳斯力。2。工作方式不同，STM有恒电流模式和恒高度模式，AFM有接触模式、轻敲模式和非接触模式。3.对样品要求不同，STM的样品只能是金属或半导体，AFM对导电性没有要求。联系：1。对探针的要求都非常高2.都能得到高分辨率的形貌图

2。工作模式:接触模式、轻敲模式和非接触模式测量Si表面三种都可以测量聚合物用轻敲模式和非接触模式

第五讲

1.基团频率会降低,向低波数方向移动因为基团频率与化学键强度和成键原子质量有关，k增大，向高波数方向移动，一般两个原子之间的化学键越多，键越强，所以三键基团频率双键基团频率单键基团频率,另外,频率会随着原子质量的增加而降低，向低波数移动。

2.Stokes线强度较大

正负拉曼位移线的几率是相等的，由于反Stokes起源于受激震动能级，处于这种能级的粒子数很少，所以强度小。

3.红外活性振动：1.永久偶极矩；极性基团；2。瞬间偶极矩；非对称分子；红外活性振动伴有偶极矩变化的振动可以产生红外吸收谱带;

而拉曼活性振动1.诱导偶极矩2。非极性基团，对称分子；伴有极化率变化的振动

第六讲

1。光电子能谱测试首先得到的是光电子的动能,原理是光电效应，光电子能谱测试首先得到的是光子的能量，因为它的原理是逆光电效应.

2.XPS测试的是芯能级，UPS是样品的价带能级,TPES是样品的导带能级.样品要求：无磁性、无放射性、无毒性、无挥发性等。

3.LUMO：导带底，定义：绝对零度时,半导体或绝缘体中电子占据的最高能级，测量XPS和UPS.

HOMO：价带顶，定义：一个电子处于价带顶,当它获得禁带宽度所对应的这么多能量时，它所处的能级就是导带底能级，测量XPS和UPS.

功函数：真空电子能级和费米能级之差。测量：UPS.

第七讲

1。采用紫外可见光分光光度计测量。首先测出该溶液的厚度b，然后测出透过率T%，和摩尔吸收系数ε,由lg（）=εbc可求得c。

2。用四探针法测量薄膜的电阻率，用霍尔效应测试仪测出载流子类型与浓度，最后通过测出的两个结果，可以算出迁移率。

3.荧光分光光度计由激发光源、样品池、双单色器系统、检测器四个部分组成,特点是有两个单色器，光源与检测器通常成直角。紫外可见光分光光度计由光源灯、单色光器、比色皿、光电管、放大器、微安表组成。荧光分光光度计有两个单色器，而紫外可见光分光光度计只有一个。荧光光谱测试中，激发光波长改变，荧光光谱的波长分布没有变化，只是强度改变

第八讲

1.光照下,在器件两侧出现电势差的现象叫做光伏效应。

2.性能参数有：单色光量子转换效率、Isc-短路电流密度、Voc开路电压、FF-填充因子、PCE-