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系别班次学号姓名.
………密………封………线………以………内………答………题………无………效……
一、选择题.
1.电离后向半导体提供空穴的杂质是(A),电离后向半导体
提供电子的杂质是(B)。
A.受主杂质B。施主杂质C.中性杂质
2.在室温下,半导体Si中掺入浓度为的磷杂质后,半导体中多数载
流子是(C),多子浓度为(D),费米能级的位置
(G);一段时间后,再一次向半导体中掺入浓度为的硼杂质,
半导体中多数载流子是(B),多子浓度为(E),费
米能级的位置(H);如果,此时温度从室温升高至,则杂质半
导体费米能级的位置(I).(已知:室温下,;时,)
A。电子和空穴B。空穴C。电子
D.E。F。
G.高于H。低于I。等于
3.在室温下,对于n型硅材料,如果掺杂浓度增加,将导致禁带宽
度(B),电子浓度和空穴浓度的乘积(D),功函数
(C)。如果有光注入的情况下,电子浓度和空穴浓度的乘
积(E)。
A。增加B.不变C.减小
D.等于E.不等于F.不确定
4.导带底的电子是(C).
1第1页共6页
系别班次学号姓名.
………密………封………线………以………内………答………题………无………效……
A。带正电的有效质量为正的粒子
B.带正电的有效质量为负的准粒子
C.带负电的有效质量为正的粒子
D.带负电的有效质量为负的准粒子
5.P型半导体MIS结构中发生少子反型时,表面的导电类型与体材
料的类型(B)。在如图所示MIS结构的C-V特性图中,
代表去强反型的(G).
A。相同B.不同
C。无关D。AB段
E.CD段F.DE段
G。EF和GH段
6.P型半导体发生强反型的条件(B)。
A.B。
C.D.
7.由于载流子存在浓度梯度而产生的电流是(B)电流,由于
载流子在一定电场力的作用下而产生电流是(A)电流。
A.漂移B.扩散C.热运动
8.对于掺杂的硅材料,其电阻率与掺杂浓度和温度的关系如图所示,
其中,AB段电阻率随温度升高而下降的原因是(
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