PECVD工艺操作规程.docx

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PECVD

工艺操作规程

车间:电池车间

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时间:2023年7月5日

序言

为更好地保证PECVD镀膜的生产正常进展,稳定生产工艺,提高PECVD工序产品质量,进一步保证电池产品性能,特制定本作业指导书,以使操作人员的工艺操作有章可循,标准统一,同时,为员工的上岗培训供给教材参考。

名目

一、工艺目的二、使用范围三、责任

四、设备及工具

五、材料与工艺气体六、工艺描述

1、工艺原理

2、工艺条件

3、工艺方案

七、工艺预备

1、工艺干净预备

2、设备预备

3、原材料预备

4、工装工具预备

八、工艺操作

1、工艺循环

2、装载

3、卸载

九、测试膜厚及折射率十、安全、标准操作十一、记录及转交

附1椭偏仪操作规程

PECVD工艺操作规程

一、工艺目的：

在硅片外表沉积一层起减反射和钝化作用的氮化硅膜

二、适用范围

电池车间PECVD工序OTB设备

三、责任

本工艺操作规程由工艺工程师负责

四、设备及工具

OTB设备、石墨舟、高温隔热手套、PVC手套、口罩、镊子、不锈钢桌架、椭偏仪、机械

手

五、材料与工艺气体

湿法刻蚀后合格的多晶硅片、硅烷、氨气\氩气、氮气、压缩空气。

六、工艺描述

1、工艺原理

6.1工艺原理

本工艺过程是利用稳定持续的氩气气氛的直流电弧放电，氩轰击硅烷〔SiH4)和氨气〔NH3〕