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原理:金属有机化学气相沉积系统〔MOCVD)是利用金属有机化合物作为源物
原理:
质的一种化学气相淀积〔CVD)工艺,其原理为利用有机金属化学气相沉积法metal-organicchemicalvapordeposition.MOCVD是一种利用气相反响物,或是前驱物precursor和Ⅲ族的有机金属和V族的NH3,在基材substrate外表进展反响,传到基材衬底外表固态沉积物的工艺。
优缺点:
MOCVD设备将Ⅱ或Ⅲ族金属有机化合物与Ⅳ或Ⅴ族元素的氢化物相
混合后通入反响腔,混合气体流经加热的衬底外表时,在衬底外表发生热分解反响,并外延生长成化合物单晶薄膜。与
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