HFCVD法制备金刚石薄膜影响因素的研究进展.docx

HFCVD法制备金刚石薄膜影响因素的争论进展

向耿辉;邸永江;杨声平;杨号

【摘要】金刚石薄膜由于其独特的性能成为争论热点。本文通过利用热丝气相沉

积法(HFCVD)在基片上制备金刚石薄膜，争论对金刚石薄膜产生影响的各个因素，探讨各个影响因素的争论进展。基体外表预处理，可以提高基体的附着力，改善提高膜基结合力。通过转变甲烷和氢气浓度、沉积气压、温度等工艺参数，可影响是否能在基片上形成金刚石晶核，生成金刚石薄膜。通过对以上影响因素的争论进展，探讨制备过程各个最适宜的反响条件。%Diamondfilmbecomesresearchhotspotduetoitsdistinctproperty.Itwasillustratedthatthemethodofhotfilamentvapordeposition(HFCVD)wasusedtomakediamondfilmon

thesubstrate,researchingthefactorswhichhadinfluencesondiamondfilm,andprobingeachinfluencefactor’sresearchprogress.Substratesurface’spretreatmentcanenhan