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G2.5高区分率TFT扫描投影曝光机

周畅;高孝裕;李喜峰

【摘要】高区分率TFT曝光技术随着第三代显示技术--AMOLED显示技术和高PPI显示技术的进展,已经成为平板显示的最关键技术之一,实现高区分曝光的TFT曝光机也是ARRAY段最核心设备.介绍了可用于G2.5代TFT玻璃基板制造的高区分率扫描投影曝光机SSB225/10,并以实际测试数据及制造成功的AMOLED显示器件说明该设备能够很好地满足LTPS-TFT工艺要求.

【期刊名称】《电子工业专用设备》

【年(卷),期】2023(044)011

【总页数】7页(P1-7)

【关键词】主动有机发光二极管(AMOLED)显示;区分率;曝光机;关键尺寸(CD)

【作者】周畅;高孝裕;李喜峰

【作者单位】上海微电子装备,上海202303;昆山工研院型平板显示技术中心,江苏昆山215300;上海大学型显示及应用集成技术教育部重点试验室,上海202344

【正文语种】中文

【中图分类】TN307

AMOLED显示被称为继LCD显示后的第三代显示技术，其显示器件不仅具有自

发光、更薄更轻、无视角问题、高清楚、高亮度、响应快速、能耗低等优点［1］，还是当今唯一支持高性能柔性显示的技术［2］，因此国内外各面板厂无一不高度

重视此项技术，并纷纷投入巨资研发，尤其三星S6Edge的公布，更是让业界看

到了AMOLED的宽阔将来。目前国内维信诺、天马、和辉等企业的AMOLED产线都已经建成，标志着与国外的差距正在渐渐缩小。随着人们对移动终端显示性能要求的渐渐提高，2K显示已经较为普及，无论TFT-LCD还是AMOLED，曾经让人望而怯步的300～400PPI显示区分率如今已不再稀奇，高达500～600PPI显示区分率的4K显示也已经开头产品化了［3，4］。如此高区分显示除了需要像LTPS这样的高电子迁移率材料支持外，还需要高区分率曝光技术［5］在精细的像素区域内完成TFT电路的制造，原有用于a-Si工艺的3μm以上区分率的曝光机明显再不能满足现在的曝光要求，3μm甚至2μm以下的曝光机成为老线升级或线建设的必需设备。

SSB225/10曝光机是上海微电子研制的支持400mm×500mm基板尺寸、具有2μm区分率的高精度扫描投影曝光机，它在SSB200步进机型［6］的技术根底上，承受全的产品平台开发，并针对移动终端显示器件研制了具有高区分率和大视场特点的曝光系统，能够实现不超过325mm〔13英寸〕显示面积的非拼接曝光和更大显示面积的拼接曝光，担当起G2.5研发线及生产线的高精度TFT曝光任务。同时，该平台可以进一步扩展到G4.5基板尺寸，实现更高世代的曝光机产品。

SSB225/10投影曝光机〔如图1〕承受整体主动减振构造，隔振局部包括照明系统、投影物镜、掩模台、工件台、对准系统、调焦调平系统。设备承受密封腔体设计，腔体温度掌握系统通过整体循环送风方式掌握对准及曝光过程的环境干净度、湿度、温度，设备内部干净度为CLASS10级，温控精度到达±0.1℃，激光干预

仪等局部温控精度到达±0.05℃，可有效保证曝光图形的尺寸〔TotalPitch〕精度。该设备通过照明狭缝扫描方式实现大面积动态曝光成像〔如图2〕，也是国内首台自主研发可量产的分步式扫描投影曝光机。

曝光系统承受窄波带i线〔波长365nm〕照明光源，双远心成像光路，投影物镜

通过2倍放大成像及基于波像差WFE的设计实现小畸变、大视场、高区分率光学

系统：成像视场尺寸180mm×260mm对应超过300mm〔12英寸〕屏幕面积，成像区分率2μm对应可制造超过600PPI显示区分率屏幕。同时，照明能量可依据用户光刻胶曝光剂量要求设置不同的级别，以满足每片基板的快速处理时间要求；照明视场可依据用户生产屏幕尺寸进展无级设置以遮挡刀片开口面积，以满足动态成像及基板面积高效利用要求。掩模台包含大行程驱动装置和准确定位微动台，进行水平向和垂向6自由度的高精度定位运动和单向扫描运动，最大水平y向扫描

行程可实现130mm掩模图形曝光，垂向3自由度亚微米级掌握可准确实现物面动态定位。基板台承受全陶瓷气浮构造，双边平衡驱动，激光干预仪测量系统，6自由度高精度伺服掌握，以满足高牢靠性及高精度对准要求。并且，掩模台和基板台通过同步掌握总线可实现小于100nm的水平向同步扫描运动，以满足高区分率动态曝光要求。对准系统包括掩模〔MASK〕对准单元和基板〔PLATE〕对准单元。掩模对准单元安装在基板台上，可通过物镜准