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1+X集成电路理论复习题与参考答案
1、在集成电路中，将掩膜版上的图形位置及几何寸转移到光刻胶上的工
艺是O。
A、薄膜制备
B、光刻
C、刻蚀
D、金属化
答案：B
在集成电路中，将掩膜版上的图形位置及几何寸转移到光刻胶上的工艺
是光刻。
2、晶圆进行扎针测试时，完成晶圆信息的输入后，需要核对（）上的信息,
确保三者的信息一致。
A、MAP图、探针台界面、晶圆测试随件单
B、MAP图、测试机操作界面、晶圆测试
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