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工程名称:先进材料性能与结构演化间关系的现代表征方
法及科学问题的研究
张泽首席科学家:北京工业大学
2009.1起止年限:至2018.8
北京市科委依托部门:
一、研究内容.
1/14
二、预期目标
2/14
3/14
三、研究方案
4/14
5/14
6/14
四、年度计划7/14
预期目研究内
提供复杂合金相中有关缺陷电子显微学方法研1
态的原子尺度的结构信息亚埃尺度元素选择成像方1
揭示原子序数衬度成像实验2)变焦出射波重构成像技研究件对图像处理的影响,
确定衬度像方法研究X研究当的实验成像条件)亚埃尺度电子线能谱学研究揭
示造成界面活性较高的内3)研究钢铁和量损失谱学研究原因,在原子尺度下
Mn金材料中析出相的精细结构及对发不锈钢点蚀的机制做更深M)研究复杂结
构能影响次的剖析合金中的沉淀强化相合金A“低维材料智能载网”在外4的晶
体学特征。通过基于第一原作用下实现位移驱动的有关计算定量考察原子间距在
揭示准一维材料在多场耦合5陷处的微小变化、位错核心处原物理性能相用下的
显微结的占位情况及可能的空位。研究效应错核芯区可能的电子效应背景实现低
维材料原位生长的可6通过对复杂结构相的原子序数衬性和可操作性像的模拟,
研究不同实验条件对在现有环境扫描电镜中引进7)在原子大熵图像处理的影响
夹杂物和Mn度下研究不锈钢材料形度、分布等控制体界面的结构原位外场下电
子显微结构和性能面、微观层次的理解;实现关系维材料原位生长的可控性和)
设计并制作适用于高分辨透射操作性子显微镜的“嵌入式”可操控“揭示硅表面
修饰的有效方法8线)维材料智能载网”结途径;实现一维有机学性能和电学性
能的原位测量的可控制备,揭示一维有机催化剂小粒子原位研究的硬件结构的光
电性质材料生长机理)完善计结构实9II-V半导体原位研究系统,对气相反应物
可控制备,并实现其表面功II-IV度、分布等微观参数可控制化结构,并实现族
半导体一维确定目标合金成分,阐述各10结构表面功能化;可控合成一金元素
对材料性能的影响,结构,研究其有机光电功能合金成分的确定,析出规律)制
备形貌可控的电性质硅线阵列的硅线阵列,研究寸,及其与宏观性能的关系电性
能及修饰篇,申请专11文SC发3轻质合金研究项优化合金成分,结合热处工
艺研究各合金元素及其含量对料宏观性能的影响。主要利用常高分辨电镜技术探
明目标合金中析出相的一般析出规律、晶8/14
预期目研究内
体学特征、成分范围和大小分布系铝合金中早期)研6XX出相的稳定性问题初
步建成亚埃尺度元素选择电子显微学方法研1像的软、硬件平台1解决综合应用
第一年中的揭示高温合金等材料的力学2种技术应用于材料研究中存在的)结合
原子分辨的结构信息为与显微结构的内在联系题揭示氧化物多层膜界面材料研
究与之相结合的第一原理计算3界面晶体学特征、化学键合)研究铁电和多铁材
料中轻法式及电子结构;揭示薄膜的元素选择成像,研究铁电畴、畴分、厚度、
晶格间匹配关系)催化剂小粒子表面精细结构对性能的影响规律细结构研究)开
展三维重构像构建早期析出相的原子模型研究)利用球差校正透射电镜4获得早
期亚埃尺度析出相的研究一维材料的精细结构)研究高温合金中析出相的缺陷子
结构信息和弹性参数揭示不锈钢点蚀形核的内在构)通过相干高分辨成像研究5
质层氧化物界面的失配及缺陷组态在扫描电镜中实现位移驱动6研究界面与薄
膜厚度、晶格失配
精确控制和单体低维材料的系。通过非相干高分辨原子序数纵,并根据不同的测
量功能度成像获得原子尺度界面结构以方便地对单体低维材料施系合金中
Al-Cu-M息)研电场,力场)外效早期析出相,获得早期析出相层次结构原位生
长衬度像,分高分辨CM7实现
层次结构的生长8元素的占位;亚埃尺度下的早期揭示理出相的电子EEL研究
材料的精细1)利用第一原理方法研究不锈揭示一维9和基Mn构局域缺陷以
Mn层次结构的界面特界面的电子结构与特性揭示10
以及与制备工艺的关系原位外场下电子显微结构和性能层次结构的电子结11揭
示关系及输运特性线力学性能和电学性掌握各种析出相在单级热处的原位测量
12)基于原子力显微下的析出条件,如温度、合的控制和工作原理,设计一套可
放置在扫描电子显微镜样品室内元素比例等对析出相的影响对各阶段的析出相
有清晰的单体低维材料操纵和性能测量13义,包括其晶体学结构、成元;并原
位研究准一维单体在外以及与基体的
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