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离子注入机剂量控制器设计
钟新华;彭立波;易文杰
【摘要】Dosecontrollerisaveryimportantapparatusforanimplantationmachine.Themainfunctionsofthisdosecontrolleristoaccuratelymeasurebeamcurrentandinjectiondose,controltheionbeamhorizontalmovementintheelectricfield,andmaketheionevenlydistributedinthehorizontaldirectionandsynchronousverticalscanningmovementcompleteioninjectionofdosecontrolBasedonthesefunctionalrequirements,ahighaccurateandmultifunctionalandprogrammablecontroldosecontrollerforimplantispresentedinthispaper.Firstly,thetheoryandfunctionofthecontrolsystemareintroduced.Second,thehardwarearchitectureandthedesignofsomefunctionalmodules,andtheirfunctionrealizationsinthiscontrolsystemaredescribed.Thecontrolsystemiscomposedofthreemainfunctionmodules,suchascurrentanddoseaccuratelymeasuremodule,Scanwavegenerationandcontrolmodule,apositionsynchronizedsignfromverticallymechanicalscanningmovedetectandcontrolmodule.Finally,theexperimentalresultsshowthattheperformanceoftheionimplanterdosecontrollermeetsthedesignrequirements.%剂量控制器是离子注入机的核心部件，主要功能有精确测量离子注入机束流与注入剂量，控制离子束在电场中水平运动，并使离子均匀地分布在水平方向和同步垂直扫描运动完成离子注入的剂量控制。基于这些功能要求，本文提出了一种高精密、多功能和程控式的离子注入机剂量控制器。首先介绍了离子注入机剂量控制器工作原理和功能，然后，详细地阐述剂量控制器的系统构成和各功能模块设计及功能实现。此控制器按功能主要分为多通道、多级量程的高精度束流与剂量测量模块、扫描波形控制模块、垂直扫描同步信号检测与控制模块等。最后，通过实验验证了此离子注入机剂量控制器的性能达到设计要求。
【期刊名称】《自动化博览》
【年(卷),期】2016(000)010
【总页数】4页(P92-95)
【关键词】离子注入;剂量控制;扫描波形;位置同步
【作者】钟新华;彭立波;易文杰
【作者单位】中国电子科技集团公司第四十八研究所，湖南长沙410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所，湖南长沙410111;中国电子科技集团公司第四十八研究所，湖南长沙410111
【正文语种】中文
【中图分类】TP332.3
早在20世纪60年代，离子注入技术就应用在半导体器件的生产上。离子注入技术就是将某种元素的原子进行电离，并使其离子在电场中加速，获得较高的速度后植入固体材料的表面，以改变这种材料表面的物理或者化学性能的一种技术。
从1858年世界上第一块集成电路诞生至今的50多年中，世界集成电路技术与产业的飞速发展，经历小规模（数百个元件）、中规模、大规模、超大规模，到今天已进入特大规模（千万以上个元件）的时代。随着集成度的提高和电路规模的增大，电路中单元器件尺寸不断缩小，图形、特征、尺寸成为每一代电路技术的特有表征。20世纪末，集成电路制造技术主流为0.13微米的8英寸硅片；但是经过几年的时间，100纳米、65纳米、32纳米、28纳米的工艺也陆续进入生产；同时受到经济利益的驱动，集成电路制造厂商追
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