- 1、本文档共26页,其中可免费阅读8页,需付费170金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
取向氧化锆缓冲层对氧化铪铁电薄膜相稳定性的影响
摘要:铁电材料的重要成果就是铁电存储器,铁电存储器的运行速度的提升是将来发展铁电存储器的关键所在,而HfO2铁电薄膜作为未来理想的一种铁电材料,了解其极化性能提升非常重要。HfO2铁电薄膜受基底调控的影响明显,通过界面的电化学性质稳定铁电相是一种较好的方法。缓冲层的存在可以有效的提高铁电薄膜的性能,ZrO2缓冲层相对于其他缓冲层,得到的铁电薄膜具有更好的电滞曲线。在本文中,分别对[100]取向上氧化锆缓冲层与氧化铪铁电薄膜氧表面终端、铪表面终端进行模型搭建,通过第一性原理对其进行能量上的计算,从能量角度解释缓冲层对氧化铪铁电薄膜性能的影响。结果表
您可能关注的文档
- Al-Zr二元系的热力学优化计算.docx
- CuO-CeO2-Al2O3 SCR催化剂的制备及协同催化氧化甲苯的性能研究.docx
- Cu-SAPO-34@CeO2核壳催化剂的制备及协同控制NO和甲苯的性能研究.docx
- EB-PVD涡轮叶片热障涂层微观结构表征 .docx
- EB-PVD叶片级热障涂层微观结构表征 .docx
- EPS存在下AgNPs对小麦的毒性行为研究.docx
- EPS冠特性及其对纳米颗粒吸附重金属的影响.docx
- Hf0.5Zr0.5O2(HZO)基 FeFET 的低温特性研究.docx
- Mg-Zn-Mn-Y合金热压缩组织变化及流.docx
- MoSe2纳米片的过氧化物酶活性考察及应用研究.docx
文档评论(0)