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TG1587
真空镀膜标准作业书
产品型号
颜色
作成日期
文件编码
版本
作成
审核
批准
LBD-AF
无色
HX-SOP-GX-SC-005
A2
■真空镀膜详细作业条件
类别
管理项目
详细说明
镀膜方式
E-BEAMEVAPORATION
利用阻蒸加热蒸发的真空镀膜
镀膜设备
1500/2050机型
28#
作业条件
轰击前真空度
6.0*E-3Pa
开启离子源前的真空度
轰击时离子源阳极电压
100V-120V
气体设为自动给气方式,轰击时间:5分钟
轰击时离子源阴极电流
4.1A
轰击时离子源阳极电流
4.0A
成膜初始真空度
5.0*E-3Pa
镀膜作业前的真空度
成膜真空度
4.0*E-3Pa~6.0*E-3Pa
不需要充氧
POWER
SiO2
150mA±50
AF-防水药
阻蒸电流200A±100
束流/电流
6.0?/s,扫描光斑调到最大,Toling:100%
AF
1.0-2.0?/s,扫描光斑调到最小,Toling:100%
镀膜数据
膜厚
Sio2(100?±10?)/AF(100-200?)
材料
SiO2
0.5~3mm、99.9%
20mm、99.9%
转架速度
25±5RPM
25±5Hz
作业时间
1周期(从上一炉开门到下一炉开门)
30Min
制修订/废止内容及说明
日期
A0
新制定
邹永桃
A1
修订全文
陈会
更改文件编码
2016.1.21
陈会
?2016?/?1?/?21
?2014?/?3?/?6
?2015?/?11?/?5
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