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光电子和激光专业名词解释

1.粒子数反转（populationinversion）是激光产生的前提。两能级间受激辐射几率与两

能级粒子数差有关。在通常情况下，处于低能级E1的原子数大于处于高能级E2的原子数，

这种情况得不到激光。为了得到激光，就必须使高能级E2上的原子数目大于低能级E1上的

原子数目，因为E2上的原子多，发生受激辐射，使光增强（也叫做光放大）。为了达到这个

目的，必须设法把处于基态的原子大量激发到亚稳态E2，处于高能级E2的原子数就可以大

大超过处于低能级E1的原子数。这样就在能级E2和E1之间实现了粒子数的反转。

2.成栅方法光纤光栅制作方法中的驻波法及光纤表面损伤刻蚀法，成栅条件苛刻，成品率

低，使用受到限制。主要的成栅有下列几种。

1）短周期光纤光栅的制作

a）内部写入法内部写入法又称驻波法。将波长488nm的基模氛离子激光从一个端面耦

合到锗掺杂光纤中，经过光纤另一端面反射镜的反射，使光纤中的入射和反射激光相干

涉形成驻波。由于纤芯材料具有光敏性，其折射率发生相应的周期变化，于是形成了与

干涉周期一样的立体折射率光栅，它起到了Bragg反射器的作用。已测得其反射率可达

90%以上，反射带宽小于200MHZ。此方法是早期使用的，由于实验要求在特制锗掺杂

光纤中进行，要求锗含量很高，芯径很小，并且上述方法只能够制作布拉格波长与写入

波长相同的光纤光栅，因此，这种光栅几乎无法获得任何有价值的应用，很少被采用。

用准分子激光干涉的方法，Meltz等人首次制作了横向侧面曝光的光纤光栅。用两束相

干紫外光束在接错光纤的侧面相干，形成干涉图，利用光纤材料的光敏性形成光纤光栅。

栅距周期由∧=λuv/（2sinθ）给出。可见，通过改变人射光波长或两相干光束之间的

夹角，可以改变光栅常数，获得适宜的光纤光栅。但是要得到高反射率的光栅，则对所

用光源及周围环境有较高的要求。这种光栅制造方法采用多脉冲曝光技术，光栅性质可

以精确控制，但是容易受机械震动或温度漂移的影响，并且不易制作具有复杂截面的光

纤光栅，这种方法使用不多。

b）光纤光栅的单脉冲写入由于准分子激光具有很高的单脉冲能量，聚焦后每次脉冲可

达J·cm-2，又发展了用单个激光脉冲在光纤上形成高反射率光栅。英国南安普敦大学的

Archambanlt等人对此方法进行了研究，他们认为这一过程与二阶和双光子吸收有关。

由于光栅成栅时间短，因此环境因素对成栅的影响降到了最低限度。此外，此法可以在

光纤技制过程中实现，接着进行涂覆，从而避免了光纤受到额外的损伤，保证了光栅的

良好强度和完整性。这种成栅方法对光源的要求不高，特别适用于光纤光栅的低成本、

大批量生产。

c）相位掩膜法将用电子束曝光刻好的图形掩膜置于探光纤上，相位掩膜具有压制零级，

增强一级衍射的功能。紫外光经过掩膜相位调制后衍射到光纤上形成干涉条纹，写入周

期为掩膜周期一半的Bragg光栅。这种成栅方法不依赖于入射光波长，只与相位光栅的

周期有关，因此，对光源的相干性要求不高，简化了光纤光栅的制造系统。这种方法的

缺点是制作掩膜复杂，为使KrF准分子激光光束相位以知间。隔进行调制，掩膜版一维

表面间隙结构的振幅周期被选为4π（nilica－1）/（A·λKrF）=π，这里A是表面间

隙结构的振幅。这样得到的相位掩膜版可使准分子激光光束通过掩膜后，零级光束小子

衍射光的5%，人射光束转向+1和-1级衍射，每级衍射光光强的典型值比总衍射光的35%

还多。用低相干光源和相位掩膜版来制作光纤光栅的这种方法非常重要，并且相位掩膜

与扫描曝光技术相结合还可以实现光栅耦合截面的控制，来制作特殊结构的光栅。该方

法大大简化了光纤光栅的制作过程，是写入光栅极有前途的一种方法。

2）长周期光纤光栅的制作

a）掩膜法掩膜法是目前制作长周期光纤光栅最常用的一种方法。实验中采用的光纤为

光敏光纤，PC为偏振控制器，AM为振幅掩膜，激光器照射数min后，可制成周期60

μm～1mm范围内变化的光栅，这种方法对紫外光的相干性没有要求。

b）逐点写人法此方法是利用精密机构控制光纤运动位移，每隔一个周期曝光一次，通

过控制