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1．用途：
本设备为软轴提拉型单晶炉，是在惰性气体（氩气）环境中，用石墨电阻加
热器将硅半导体材料溶化，用直拉法生长单晶的设备。9001型炉采用18热场，投
料量60Kg，可拉制6或8的单晶。（1201型炉，采用18”或20”热场，投料量
最大120Kg,,可拉制6~10的单晶。）
2．设备的工作原理概述：
本设备采用软籽晶轴提升机构，显著降低了单晶炉的高度，因而在一般厂房
中
专注地铁、铁路、市政领域安全管理资料的定制、修改及润色，本人已有7年专业领域工作经验，可承接安全方案、安全培训、安全交底、贯标外审、公路一级达标审核及安全生产许可证延期资料编制等工作，欢迎大家咨询~
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