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含物性基元侧液晶高分子的制备与表征的开题报告

标题：含物性基元侧液晶高分子的制备与表征

研究背景和意义：

含液晶基元的高分子材料已经成为功能性材料的重要类别之一，具

有广泛的应用前景，包括液晶显示器、光伏材料、传感器等领域。然而，

液晶聚合物的应用受到其成本、性能和制备难度等方面的限制。为了克

服这些限制，近年来研究人员开始采用侧向引入液晶基元的方法来制备

含液晶基元的高分子材料，这种材料被称为含物性基元侧液晶高分子。

对于含物性基元侧液晶高分子材料的制备和表征，目前仍存在一定

的挑战。一方面，由于液晶基元的引入和高分子化学反应的共存，反应

条件的控制和体系的纯化都非常重要。另一方面，含物性基元侧液晶高

分子的结构和性质的表征也需要采用多种手段，包括核磁共振、X射线衍

射、热分析等方法。

因此，本文计划探究含物性基元侧液晶高分子的制备方法和表征手

段，进一步研究其结构和性质的变化规律，为该类材料的研究提供新的

思路和方法。

研究内容：

1.合成多种含物性基元的高分子材料。

本研究将利用环氧、酸酐等基元与液晶单体进行反应，制备多种含

物性基元侧液晶高分子。

2.探究反应条件的影响。

在合成过程中，将根据液晶单体和基元的不同，在反应体系中引入

催化剂、溶剂等辅助剂，研究它们对反应的影响。

3.采用多种表征手段对材料进行分析。

对合成的多种含物性基元侧液晶高分子进行核磁共振、X射线衍射、

热重分析、热差分等多种表征手段的分析，从结构和性质两个方面综合

表征。

4.研究结构和性质的关系。

分析不同含物性基元侧液晶高分子的结构和性质的差异，探究它们

之间的关系，为进一步优化材料性能提供理论支持。

研究方法：

1.合成含物性基元侧液晶高分子。

利用环氧、酸酐等含物性基元与液晶单体经高分子化学反应合成含

物性基元侧液晶高分子。

2.反应条件的优化。

调节反应条件，例如温度、时间、催化剂和溶剂等参数，寻找最优

合成条件，以得到优质的含物性基元侧液晶高分子。

3.分析材料结构和性质。

采用核磁共振、X射线衍射、热分析等多种表征手段对含物性基元

侧液晶高分子进行分析，以研究材料结构和性质的变化规律。

4.研究材料的性能。

研究含物性基元侧液晶高分子的液晶行为、光学行为等性质，探究

其在液晶显示器、光伏材料、传感器等领域的应用前景。

研究预期结果：

本研究将通过合成多种含物性基元侧液晶高分子，并采用多种表征

手段对其进行分析，探究不同结构和性质参数之间的关系，为优化含物

性基元侧液晶高分子的性能提供理论支持。预计本研究可以为液晶高分

子材料的制备和应用提供新的思路和方法，同时为工程界提供一种新型

液晶材料。