2010-2023历年河南省镇平一高高三下学期第二次周考理综化学部分(带解析).docxVIP

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2010-2023历年河南省镇平一高高三下学期第二次周考理综化学部分(带解析)

第1卷

一.参考题库(共10题)

1.短周期元素W、X、Y和Z的原子序数依次增大.元素W是制备一种高效电池的重要材料,X原子的最外层电子数是内层电子数的2倍,元素Y是地壳中含量最丰富的金属元素,Z原子的最外层电子数是其电子层数的2倍.下列说法错误的是

A.元素W、X的氯化物中,各原子不是均满足8电子的稳定结构

B.元素X与氢形成的原子个数比为1:1的化合物有1种

C.元素Y的单质与氢氧化钠溶液或盐酸反应均有氢气生成

D.元素Z可与元素X形成共价化合物XZ2

2.(15分)现有七种元素,其中A、B、C、D、E为短周期主族元素,F、G为第四周期元素,它们的原子序数依次增大。请根据下列相关信息,回答问题.

A元素的核外电子数和电子层数相等,也是宇宙中最丰富的元素

B元素原子的核外p电子数比s电子数少1

C原子的第一至第四电离能分别是:

I1=738kJ/mol?I2=1451kJ/mol?I3=7733kJ/mol?I4=10540kJ/mol

D原子核外所有p轨道全满或半满

E元素的主族序数与周期数的差为4

F是前四周期中电负性最小的元素

G在周期表的第七列

⑴已知BA5?为离子化合物,写出其电子式???????????.

⑵B基态原子中能量最高的电子,其电子云在空间有???个方向,原子轨道呈??????形

⑶某同学根据上述信息,推断C基态原子的核外电子排布为:

该同学所画的电子排布图违背了?????????????????.

⑷G位于??????????族??????区,价电子排布式为????????????????.

⑸DE3中心原子的杂化方式为?????,用价层电子对互斥理论推测其空间构型为????????.

⑹检验F元素的方法是???????????????,请用原子结构的知识解释产生此现象的原因是????????????????????????????????????????????????????.

⑺若某单质晶体中原子的堆积方式如下图甲所示,其晶胞特征如下图乙所示,原子之间相互位置关系的平面图如下图丙所示。则晶胞中该原子的配位数为???????????,该单质晶体中原子的堆积方式为四种基本模式中的????????.

3.(15分)S2Cl2是一种易挥发的液体(熔点:-76℃,沸点:138℃),且易与水发生水解反应,可能生成H2S、SO2、H2SO3、H2SO4等物质。它是橡胶硫化剂。在熔融的硫中通以氯气即可生成S2Cl2。下图是实验室用S和Cl2制备S2Cl2的装置(夹持装置、加热装置均已略去)。

(1)已知S2Cl2分子结构与H2O2相似,则S2Cl2的分子中共含有__________条共价键。

(2)装置a中应放试剂为__________;装置d的名称是_________,它的作用是_________。

(3)该实验的操作顺序应为__________(用序号表示)。

①加热装置c?②通入Cl2???③通冷凝水?④停止通Cl2?⑤停止加热装置c

(4)图中f装置中应放置的试剂为__________,其作用为_____________。

(5)将S2Cl2的水解气体产物通入氯水中,若观察到_________的现象,则可证明水解产物中有硫化氢生成。

4.(15分)A、B、C、D都是中学化学常见的物质,其中A、B、C均含有同一种元素。在一定条件下相互转化的关系如图所示。

请回答下列问题:

(1)若D为用量最大、用途最广的金属单质,加热蒸干B的溶液没有得到B的盐,则B的化学式可能为??????????。(写出一种即可)

(2)若通常情况下A、B、C、D都是气体,且B和D为空气的主要成分,则A的电子式为????????????,B的结构式为?????????????。

(3)若D为氯碱工业的重要产品,反应(III)的离子方程式为????????????????。

(4)若A、B、C的溶液均显碱性,C为焙制糕点的发酵粉的主要成分之一,也可作为医疗上治疗胃酸过多症的药剂。

①25℃时,pH均为10的A、B两溶液中,由水电离出的氢氧根离子浓度之比为????????。

②25℃时,0.1mol·L-1的A、B、C三种溶液,分别用水稀释不同的倍数后,溶液的pH相同,则稀释后溶液的物质的量浓度最大的是???????????溶液(填溶质的化学式)。

③将等物质的量的B和C溶于水形成混合溶液,溶液中各种离子浓度由大到小顺序为???????????????????????????????????????????????????????。

5.(14分)高纯硅是当今科技的核心材料。工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)

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