《电子工业超纯水紫外线降解总有机碳系统应用技术规程》.pdf

T/CECSXXX-202X

中国工程建设标准化协会标准

电子工业超纯水紫外线降解总有机

碳系统应用技术规程

Technicalspecificationforapplicationofultravioletdegradationsystem

oftotalorganiccarboninultrapurewaterforelectronicsindustry

（征求意见稿）

提交反馈意见时，请将有关专利连同支持性文件一并附上

目次

1总则1

2术语3

3基本规定6

4设计7

4.1系统设计7

4.2紫外线降解装置10

4.3离子交换装置15

5安装与调试17

5.1一般规定17

5.2安装17

5.3调试19

6检测与验收21

6.1系统检测21

6.2系统验收22

7运行维护24

7.1运行维护24

7.2安全防护25

附录A痕量总有机碳的在线测定方法26

用词说明28

引用标准名录29

附：条文说明30

1总则

1.0.1为提升电子工业超纯水工程建设质量，规范紫外线降解总有机碳系统的

设计、安装、调试、检测、验收与运行维护，为电子工业工艺生产过程提供稳定

运行的动力保障，制定本规程。

【条文说明】本规程中电子工业是研发和生产各类半导体器件、显示器件、光电

子器件、电子专用材料的产业化行业。在以集成电路和新型显示器件为代表的

电子工业半导体工艺生产过程中，超纯水是提供清洗、配制化学品以及靶材冷

却液的重要高纯介质。随着工艺特征尺寸的缩小，超纯水的制备系统对总有机

碳（TotalOrganicCarbon，TOC）等核心微污染指标提出了更加严格的控制要求，

目前12英寸半导体超纯水制备系统中普遍采用TOC＜1μg/L作为有机物的关键

控制参数。紫外线降解总有机碳系统是满足TOC严格控制要求的关键处理单元，

能够高效降解总有机碳，对生产工艺的有机微污染控制起着重要保障作用。

本规程的制定旨在从工程设计、施工检测和运行维护等方面规范紫外线降

解总有机碳系统的应用要求，为紫外线灯管和降解装置的生产制造商、水处理

系统集成商、工程设计单位、施工单位以及监理与建设单位提供有力的技术支

撑，使紫外线降解系统应用于工程建设和生产运营有规可循、有据可依，切实

起到提升超纯水制备工程建设质量、保障厂务动力系统稳定运行、提高工艺产

品良率的作用。本规程还针对具有高标准微污染控制要求的集成电路先进制程

工艺用水，提出降解系统次生微污染的防护方法，使技术规程具有先进性和前

瞻性。

1.0.2本规程适用于电子工业超纯水紫外线降解总有机碳系统的设计、安装、

调试、检测、验收与运行维护，还适用于超纯水系统工艺设计中总有机碳逐级

消减计算的设计验证。

【条文说明】本规程面向电子工业超纯水系统的制备与生产运行，对紫外线降

解装置的制造与工程应用提出适用性、科学性、系统性和保障性的规定和要求。

这里的电子工业超纯水系统指的是集成电路、光电子器件、半导体分立器件、

传感器、新型半导体显示器件等微纳电子器件制造和其他电子器件及其专用原

材料制造行业使用的超纯水制备系统，还包括光伏、发光二极管（LED）和集

成电路封测等电子级水的制备系统。其它行业中纯水系统的技术要求和管理要

求可参考使用本规程。本规程还适用于超纯水系统工艺设计中逐级消减的总有

机碳设计负荷的计算验证。

1.0.3电子工业超纯水紫外线降解总有机碳系统的设计、安装、调试、检测、