《 Cu-Zn-Sn硫族化物薄膜吸收层的共溅射制备工艺及性能研究》范文.docxVIP

《Cu-Zn-Sn硫族化物薄膜吸收层的共溅射制备工艺及性能研究》篇一

一、引言

随着科技的飞速发展，新型材料的研究与开发已成为当前科学研究的重要方向。在众多材料中，Cu-Zn-Sn硫族化物因其优异的性能，如高吸收系数、低毒性、良好的稳定性等，在光电器件领域具有广泛的应用前景。而薄膜吸收层作为光电器件的核心部分，其制备工艺及性能的研究显得尤为重要。本文将重点研究Cu-Zn-Sn硫族化物薄膜吸收层的共溅射制备工艺及其性能。

二、共溅射制备工艺

1.靶材选择与预处理

首先，选择高纯度的Cu、Zn、Sn硫族化物靶材，并进行预处理，如清洗、打磨等，以保证靶材的洁净度和表面平整度。

2.共溅射设备与参