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光刻机发展探析.docx

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    半导体制造光刻机发展探析

    摘要

    半导体制造中的光刻机技术发展历程是一个充满挑战和创新的故事。光刻机作为集成电路制造的核心设备，其技术进步直接关系到芯片制造的精度和性能。从最初的接触式光刻机到现在的极紫外光（EUV）光刻技术，光刻机的发展经历了多个阶段，不断推动着摩尔定律的实现和信息技术的发展。

    关键词：半导体制造；光刻机；发展；紫极外光源

    目录

    TOC\o1-3\h\u29270引言 1

    56711、光刻机的介绍 1

    128142、光刻机专利的发展 2

    324382.1接触式光刻机专利发展 3

    215842.2

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