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二元光学元件制造初探
朱永健郑晖
(装备指挥技术学院基础部大学生一队，北京市101416)
喃要]随着微细加工工艺和计算机技术的发展，二元光学元件的特征尺寸进一步减小。本文对Darrmmnn光栅的基础知识进行了一次介
绍．并推导出了标量衍射效率，包括其解析式的通用方法，并详述了二元光学元件的常用制作工艺技术。
【关键词]Dammann光栅；制作工艺；光刻
1Dammann光栅启紫外灯预热十分钟，再用镊子将涂敷光刻胶膜并经前烘的基片置于升
空间坐标调制二相值相位光栅最早是由Dammann和果尔特勒降台上，把光刻掩膜版移到基片上面，使基片和掩膜版都在显微镜的视
(G?rtlerl于1971年提出，利用特殊孔径函数的衍射光栅产生一维或场与景深范围内：在x、Y、e三个方向移动光刻掩膜版，使掩膜版
二维的等光强阵列光束。其目的是想在光刻时能同时获得一个物体的多上的图形与基片的位置套和准确，用显微镜复查有否走动偏出，此时就
重成像以提高生产效率。这种光栅又被称为“Dammann光栅”。近年算“定位”好了。把光刻机推至紫外灯下。开启快门即可“感光”。
来，由于光计算研究的深入开展，Dammann光栅又被用于光互连、34显影
并行读取信息或作为逻辑阵列器件的光源等。将曝光后的基片放入用于有机溶剂配置的显影液中，可去除未感
2设计方法光部分的感光胶而保留感光部分的感光胶，便显现出我们所需的图形，
在Dammann光栅的优化设计中，不仅要考虑各级衍射光强相等这就是显影。显影操作如下：在两只烧杯中各注入约60～80毫升的丁
的情况，还要使衍射效率尽可能的高。根据二元光学元件衍射效率的普酮，然后将曝光过的基片用镊子夹住，置于一烧杯中，轻轻晃动丁酮
遍形式。(或基片)，以使感光的光刻胶溶解，经15～20秒钟后取出，再放在另
7=(A／A。M10-【韭皂等俨12[_州sin((k¨-1))。订州／一烧杯的丁酮中晃动约15～20秒，使残剩的未感光的光刻胶漂溶干净，
再用去离子水漂洗，最后用显微镜检查图形是否清晰、正确。
显然，k=l时，田=(sinc锕／NF，这就是我们熟知的二元位相元件35坚膜
+1级的衍射效率公式。b由于显影时光刻胶膜发生软化、膨胀，影响胶膜的抗蚀能力，因此
当k=l士mN时
显影后必须用适当温度烘焙玻璃以除去水分，增强胶膜与玻璃的粘附性，
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这个过程叫坚膜。通常可把显影后的基片放入150～20a℃的烘箱中烘
焙20～30分钟。坚膜时，温度太1氐或时间过短，胶膜就烘得不透，光
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