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F50光谱反射膜厚仪
1.0仪器功能EquipmentSummary
F50-UV膜厚仪利用光学干涉法量测薄膜厚度，可以很简单快速地测量基
本所有光滑的非金属薄膜，其中包括氧化硅、氮化层、光刻胶、高分子
材料、多晶硅和非晶硅等。如下图当一束光入射到薄膜表面时，薄膜上
表面和下表面的反射光会发生干涉，干涉的发生与薄膜厚度及光学常数
等有关，反射光谱薄膜测厚仪就是基于此原理来测量薄膜厚度，它是一
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