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携的水质测定仪。
H‘VPE法生长GaN自支撑衬底性能特点:
项目”落户德泓·读数精度±1%,校准点±0.2%
·测量结果准确性高,重复性好
·KC1、NaC1和442TM3种预设校正模式
近El,中国科学院上海微系统与信息技术研
·自动温度补偿
究所与德泓(福建)光电科技有限公司正式签订
·自动偏移校正
《技术转让合同》和《技术开发协议书》,中国科
·耐用的全密封电路
学院上海微系统与信息技术研究所“HVPE法生
·防水
长GaN衬底技术”的所有知识产权.包括与此相
主要参数:
关的已授权和正在申请的专利以及双方认可的关
·测量范围
键技术全部转让给德泓光电:双方还就合作开展
电导:1-9999x/S
“HVPE法生长GaN自支撑衬底项目”事宜达成
TDS:ppm
一致。
盐度:0.001-9.999ppt
以GaN(氮化镓)为代表的第三代半导体材
·精确度(湿度校正后)
料是近十几年来国际上倍受重视的新型半导体材
读数±1%
料,在白光LED、短波长激光器、紫外探测器以
·读数稳定时间
及高温大功率器件中具有广泛的应用前景。中国
10~20s
科学院上海微系统与信息技术研究所于广辉研究
·操作温度
员经过8年的研究,共获得相关发明专利授权
0~55℃
11项,另有3项已受理发明专利正在审查之中。
.夕形尺寸:15.87em(长)×1.91cm(直径)
多项技术处于国际先进水平。这些关键技术的应
标准配置:
用,可以大大降低GaN衬底材料的成本。
·PT1笔式电导率/,ID’S/盐分计
于广辉研究员说,该项研究成果一旦产业
·采集器
化,将大大降低大功率LED用GaN同质衬底成
·便携夹子
本,大大提高LED照明产品的性价比和综合优
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