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PECVD测试题

一选择题（4个选项中只有一个是正确的，请将正确答案填入括号内,每题5分）

1PECVD工序的目的是为了在硅表面形成一层致密的薄膜，薄膜的组成部分主要是

（A）

A.氮化硅B.氧化硅C.五氧化二磷D.磷硅玻璃2PECVD的反应气体中含有

氨气（NH3），在形成等离子体后H离子的主要作用是（D）

A.形成薄膜B.控制薄膜的折射率C.控制薄膜的厚度D.硅片的表面钝化

3PECVD工艺完成后，硅片表面的镀膜颜色发白，下列哪些措施可以缓解这种情况

（D）

A增加温度B增加镀膜时间C增加NH3流量D减少压力4下列哪些对硅烷的描述

是错误的（D）

A在空气中可以自然B可以与氯、氟发生剧烈反应C吸入后会引发头晕、恶心D硅

烷引起的燃烧可用水来熄灭5下列哪些对氨气的描述是错误的（C）

A与空气混合会形成爆炸性气体B低浓度的氨气对粘膜有

刺激性作用C皮肤接触后可以用酒精擦拭D吸入氨气后应离开现场至空气新鲜处

二填空题每题5分

1当石墨舟使用了一段时间后，表面沉积了很厚的氮化硅，影响舟壁与硅

片的接触，从而影响镀膜的质量，因此要进行石墨舟的清洗。

2向清洗机一侧的槽内加入一定量的氢氟酸，适量加入纯水使液面高度大约在

30―40cm，并向另一侧的槽加入纯水。

3Si3N4膜的颜色随着它的厚度的变化而变化，表面呈现的理想颜色是深蓝

色.Si3N4膜的折射率会随着NH3量的变化而变化.

4装卸片时，片盒的H面朝向自己，放进石墨舟里先将舟下方的卡点

固定好，然后向一方将硅片倾斜卡在上方的卡点上。

5将舟插满后，检查硅片是否与舟壁贴紧，是不是卡在三个卡点上。

把硅片放入卸片盒时动作要轻，最大程度的减小硅片与片盒的撞击。三

简答题每题10分

1什么是PECVD，请解释其中文意思，并且简单描述其原理

2请简单描述硅烷和氨气的反应，生成物，及其目的（3SiH4+4NH3→Si3N4+12H2，

次式为硅烷和氨气的反应方程式）

3请简述PECVD工序员工基本操作的简单流程

4简要描述，PECVD工艺中的钝化作用

5PECVD的岗位职责描述（员工与工段长分开写，请注明职位）

感谢您的阅读，祝您生活愉快。