半导体器件基础总复习.pdfVIP

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半导体器件基础总复习

双极型晶体管部分

晶体管由两个pn结:发射结和集电结将晶体管划分为三个区:发射区、基区及集电区。

相应的三个电极称为发射极、基极和集电极,并用E,B和C(或e,b和c)表示。

晶体管有两种基本结构:pnp管和npn管。

双极型NPN晶体管制造过程:

1、在N型衬底中扩散P型杂质;

2、在P型扩散区中再扩散N型杂质;

3、在磷氧化层上开出基区和发射区接触孔;

4、蒸发金属;

5、光刻金属,引出及区、发射区引线;

6、制备集电极电极

7、切片、封装

JJ11

nEnE

发射效率

JJJJ0

DpW

EnEpE1pE1peneb

J

Dn0L

nEnbpbpe

可见提高N/N,降低R/R可提高发射效率,使γ接近于1。

eb□e□b

2

JJ

1W

**



b

nCrB

基区输运系数11



JJ2L



nEnEnb

1

半导体器件基础总复习

1

*222

集电区倍增因子1qn

2inCpCC

两种类型晶体管均可适用

W

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