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第卷第期光学技术
324ol.32No.4
年月
20067OPTICALTECHNI@UEJul2006y
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文章编号：（）
1002-1582200604-0562-03
抛光液的值对抛光元件表面粗糙度的影响
pH
1122121
韩敬华，冯国英，杨李茗，刘义彬，朱海波，刘民才，王绍鹏
（四川大学电子信息学院，成都；成都精密光学工程研究中心，成都）
1.6100642.610041
摘要：减小大孔径超光滑玻璃表面的粗糙度是提高抛光质量的关键。实验研究了抛光过程中pH值对抛光元件
表面粗糙度的影响。结果表明：抛光液的值对抛光元件表面粗糙度有较明显的影响；抛光过程中抛光液的值会
pHpH
随抛光时间而变化；抛光过程中，当保持抛光液处于微碱状态，且离抛光粉的等电离点较远时，抛光元件表面具有较小的
粗糙度。
关键词：抛光；pH值；表面粗糙度；水解；等电离点
中图分类号：T@171文献标识码：A
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