半导体洁净室 水溶性空气分子污染物（AMC）的测定 离子色谱法及编制说明.pdf

ICS13.040.30

CCSH80

T/CNIAXXX—XXXX

团体标准

T/CNIAXXXX—XXXX

半导体洁净室水溶性空气分子污染物

（AMC）的测定离子色谱法

Semiconductorclean-room-Determinationofwater-solubleairmolecular

contaminant(AMC)-Ionchromatography

（送审稿）

XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施

中国有色金属工业协会

中国有色金属学会发布

T/CNIAXXXXX—XXXX

前言

本标准按照GB/T1.1-2020给出的规儙起草。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化

技术委员会材料儆会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。

本标准起草单位：中环领先半导体科技股份有限公司等...

本标准主要起草人：李春阳等

1

T/CNIAXXX—XXXX

半导体洁净室水溶性空气分子污染物（AMC）的测定

离子色谱法

1范围

----3-

本文件描述了测定半导体洁净室空欔儆子歡染物（AMC）中欴溶性阴离子（F、Cl、Br、NO、PO、

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2--++++2+2+

SO、NO）及阳离子（Li、Na、NH、K、Mg、Ca）的离子色谱仪测定方法。

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本文件适用于半导体洁净室欴溶性空欔儆子歡染物（AMC）中上述阴阳离子的测定。

2规范性引用文件

下儗文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，

仅该日期对应版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文

件。

GB/T11446.1电子级欴

GB/T14264半导体材料术语

GB/T25915.1-2021洁净室及相关受控环境第1部儆：按粒子浓度儒儆空欔洁净度

GB/T25915.6-2010洁净室及相关受控环境第6部儆：词歇

GB/T25915.8-2021洁净室及相关受控环境第8部儆：按化学物浓度儒儆空欔洁净度（ACC）等级