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第39卷第4期液晶与显示Vol.39No.4
2024年4月ChineseJournalofLiquidCrystalsandDisplaysApr.2024
文章编号:1007-2780(2024)04-0447-19
高迁移率金属氧化物半导体薄膜
晶体管的研究进展
*
李强,葛春桥,陈露,钟威平,梁齐莹,柳春锡,丁金铎
中山智隆新材料科技有限公司,广东中山528459
()
摘要:基于金属氧化物半导体(MOS)的薄膜晶体管(TFT)由于较高的场效应迁移率(μ)、极低的关断漏电流和大面积
FE
电性均匀等特点,已成为助推平板显示或柔性显示产业发展的一项关键技术。经过30余年的研究,非晶铟镓锌氧化物
(a-IGZO)率先替代非晶硅(a-Si)在TFT中得到推广应用。然而,为了同时满足显示产业对更高生产效益、更佳显示性
能(如高分辨率、高刷新率等)和更低功耗等多元升级要求,需要迁移率更高的MOSTFTs技术。本文从固体物理学的
角度,系统综述了MOSTFTs通过多元MOS材料实现高迁移率特性的研究进展,并讨论了迁移率与器件稳定性之间的
关系。最后,总结展望了MOSTFTs的现状和发展趋势。
关键词:金属氧化物半导体;薄膜晶体管;场效应迁移率;偏压稳定性
中图分类号:TN321+.5文献标识码:Adoi:10.37188/CJLCD.2024-0032
Researchprogressofhighmobilitymetaloxidesemiconductor
thinfilmtransistors
LIQiang,GEChunqiao*,CHENLu,ZHONGWeiping,LIANGQiying,LIUChunxi,DINGJinduo
ZhongshanZhilongNewMaterialTechnologyCo.Ltd.,Zhongshan528459,China
()
Abstract:Thin-filmtransistor(TFT)basedonmetaloxidesemiconductor(MOS)hasbecomeakey
field-effectmobility(μ),extremelylowcut-offleakagecurrentandgoodlarge-areaelectricaluniformity.
FE
Aftermorethan30yearsofresearch,amorphousindiumgalliumzincoxide(a-IGZO)isthefirsttobe
popularizedinTFTbyreplacingtheamorphoussilicon(a-Si).However,inordertosimultaneouslymeet
themultipleupgraderequirementsofthedisplayindustryforhigherproductivity,betterdisp
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